光刻胶行业深度：市场空间、国产替代、产业链及相关公司深度梳理

1/38 2024 年 9 月 30 日 行业|深度|研究报告 行业研究报告 慧博智能投研 光刻胶行业深度：市场空间、国产替代、产业链及相关公司深度梳理 光刻胶又名“光致抗蚀剂”，光刻胶具有光化学敏感性，通过利用光化学反应，并经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是一种图形转移介质。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键材料，可应用于 PCB、LCD 与集成电路等下游领域。光刻胶是泛半导体行业的核心材料。 围绕光刻胶行业，下面我们从其应用领域及分类展开探讨，对于光刻胶的重要性及产业链中上游进行细致梳理、对半导体制程提升背景下的市场空间及未来发展前景进行预测，并对其难以突破的技术、认证壁垒进行论述；对国外龙头企业进行复盘，希冀从中找到国产替代的可行路径、给国内相关企业的发展带来启示，希望通过阅读本文对大家了解光刻胶行业带来帮助。 目录 一、概述 ................................................................................1 二、产业链梳理...........................................................................7 三、市场空间及未来发展 .................................................................. 14 四、技术、认证壁垒及竞争格局 ............................................................ 21 五、光刻胶国产替代加速 .................................................................. 22 六、全球光刻胶龙头复盘及启示 ............................................................ 26 七、国内相关企业........................................................................ 31 八、参考研报 ........................................................................... 38 一、概述 1.什么是光刻胶 光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模板转移到待加工基片上的图形转移介质。其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X 射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使光刻胶的溶解度发生变化。光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，是微制造领域最为关键的材料之一，自 1959 年被发明以来，光刻胶就成为半导体工业的核心工艺材料，随后被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为 PCB 生产的重要材料；二十世纪九十年代，光刻胶又被运用到 LCD器件的加工制作，对 LCD 面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用；近年来，光刻胶成为了决定半导体芯片制程水平的关键原材料。 2/38 2024 年 9 月 30 日 行业|深度|研究报告 2.光刻胶分类 光刻胶按应用领域分类可分为 PCB 光刻胶、LCD 光刻胶、半导体光刻胶三大类。光刻胶按化学反应机理可分为正性、负性两大类，涂层曝光并显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，为正性光刻胶，反之则是负性光刻胶。 （1）光刻胶按应用领域分类 3/38 2024 年 9 月 30 日 行业|深度|研究报告 1）半导体光刻胶 根据曝光波长的不同，半导体光刻胶可分为 G 线、I 线、KrF、ArF 和 EUV 五种类型。光刻胶曝光波长越短，则加工分辨率越高，能够形成更小尺寸和更精细的图案。随着集成电路制造技术的不断进步和器件特征尺寸的不断缩小，目前最先进的光刻胶曝光波长已经达到了极紫外光波长范围，如EUV(13.5nm)。 G/I 线光刻胶：G/I 线光刻胶属于第一和第二代光刻胶技术，多数适用于 6 寸/8 寸和 438nm/365nm波长光源，目前成熟应用于汽车电子、MEMS 等领域。 KrF 光刻胶：KrF 准分子激光器可发射波长为 248nm 的光波，主要应用于逻辑电路和 3DNAND 堆叠架构中。随着堆叠层数的增加，使用量将大幅提升。 ArF 光刻胶：ArF 准分子激光器可发射波长为 193nm 的光波，其中 ArF 干法光刻利用 ArF 光源进行光刻的工艺，光刻透镜与光刻胶之间是空气，光刻胶直接吸收 ArF 光源发出的紫外辐射并发生光化学反应；ArF 湿法光刻利用 ArF 光源进...